镁合金AZ91D化学机械抛光工艺研究

• 作者: 卞达 吴冬燕 杨大林 赵永武 黄华栋
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 镁合金 工艺参数 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 30-34
• 页数: 5页
• 分类号: TQ146.22+2|TG175.3
• 字数: 4281字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16731/j.cnki.1671-3133.2017.02.006

摘要

将化学机械抛光技术(Chemical Mechanical Polishing,CMP)引入到镁合金片的抛光中,以硅溶胶、表面活性剂、螯合剂及pH调节剂为原料,以涡流搅拌的方法制备镁合金(AZ91D)抛光液.采用单因素法分析抛光过程中压力、转速、抛光液流量及抛光时间等参数对抛光效果的影响.实验结果表明:在压力为0.06MPa,抛光盘上盘转速为10r/min、下盘转速为50r/min,抛光液流量为160mL/min,抛光时间为8min的条件下,镁合金表面形貌良好;在此工艺条件下经过化学机械抛光后,镁合金表面粗糙度Ra能达到10nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵永武	江南大学机械工程学院	117	687	12.0	21.0
2	吴冬燕		31	118	5.0	10.0
3	黄华栋		35	82	5.0	7.0
7	杨大林	江南大学机械工程学院	8	25	3.0	4.0
8	卞达	江南大学机械工程学院	22	33	4.0	4.0