静/动态刻蚀对熔石英表面质量和激光损伤的影响

• 作者: 严鸿维 刘太祥 张丽娟 李源 杨科 王志强 袁晓东
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: 激光光学 熔石英 化学刻蚀 动态刻蚀 激光诱导损伤
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 激光技术
• 页码范围: 837-843
• 页数: 7页
• 分类号: TN249|O434.14
• 字数: 3543字
• 语种: 中文
• DOI: 10.5768/JAO201738.0507003

摘要

为了研究静/动态刻蚀过程中熔石英表面质量和抗激光损伤性能的演变规律,优化化学刻蚀工艺,使用HF酸缓冲液对熔石英分别进行了不同时间的静/动态刻蚀处理.实验表明,由于兆声场辅助搅拌作用,熔石英动态刻蚀的刻蚀速率快于静态刻蚀.动态刻蚀后熔石英表面均方根(RMS)粗糙度和反射面形分别为<1 nm和0.46λ,其3倍频透射率先小幅增加后保持稳定,相比初始表面增加约0.1％.而静态刻蚀使得表面RMS粗糙度和反射面形分别增加至～5 nm和0.82λ,其3倍频透射率先基本不变后下降,相比初始表面下降约0.4％.二者损伤阈值呈现明显不同变化规律:静态刻蚀使熔石英损伤阈值先小幅增加约30％后逐渐降低,动态刻蚀使熔石英损伤阈值增加近一倍后保持相对稳定.结果表明,动态刻蚀后熔石英光学元件性能明显优于静态刻蚀.