PECVD制备太阳电池氮化硅薄膜特性研究

• 作者: 刘文峰 周子游 蔡先武
• 来源期刊: 太阳能
• 关键词: PECVD 傅里叶红外 氮化硅薄膜 钝化
• 年，卷（期）: 2017,（8）
• 所属期刊栏目: 技术产品与工程
• 页码范围: 43-47
• 页数: 5页
• 字数: 4006字
• 语种: 中文

摘要

含氢氮化硅薄膜在太阳电池工业生产领域被广泛的用作减反射层和钝化层.使用工业型等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备制备了含氢氮化硅薄膜,使用傅里叶红外光谱(FTIR)测试仪对薄膜成分进行分析,研究反应气体流量、高频电源功率对薄膜成分以及薄膜特性影响,并通过硅片的少子寿命研究氮化硅薄膜成分对硅片钝化效果的影响,明确实际工业生产中的工艺调整方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘文峰	中国电子科技集团公司第四十八研究所	6	4	1.0	2.0
2	蔡先武		6	5	1.0	2.0
3	周子游	中国电子科技集团公司第四十八研究所	2	4	1.0	2.0