W掺杂对磁控溅射VO2薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 张鹏宇 徐凯 李桂燕 黄美东
• 来源期刊: 天津建设科技
• 学科: 工学
• 关键词: VO2薄膜 W掺杂 磁控溅射 光学性能 建筑节能 外窗 玻璃幕墙 镀膜
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 建筑工程
• 页码范围: 49-51
• 页数: 3页
• 分类号: TQ171
• 字数: 2457字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-3197.2017.05.020

摘要

为提高VO2薄膜的性能尤其是降低其相变温度,文章采用射频磁控溅射法在VO2薄膜中掺杂不同浓度的金属W.利用X射线光电子能谱仪、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、UV-3600分光光度计和相变测试系统对样品进行了表征.结果表明:掺杂W能够有效地降低VO2薄膜相变温度,但同时也降低了光的透过率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐凯		5	3	1.0	1.0
2	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
3	张鹏宇		27	74	5.0	7.0
4	李桂燕		5	8	2.0	2.0