反应等离子喷涂结晶规律的研究

• 作者: 傅思伟 叶芳 李田 甘智勇 陈韶瑜 齐文艳
• 来源期刊: 陶瓷学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN涂层 反应等离子喷涂 结晶规律
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 47-52
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 3305字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2017.01.009

摘要

采用反应等离子喷涂制备TiN涂层,利用扫描电子显微镜、X-射线衍射等方法对涂层进行表征.分析不同喷涂功率所得涂层的微观形貌、组织、相等,进一步对涂层的晶粒尺寸及结晶规律进行研究,以此来优化喷涂工艺参数以期得到满意的喷涂效果.结果表明,TiN涂层中除了TiN相外,还含有少量的TiO0.325、Ti3O以及Ti2O3相;涂层的微观结构是由大量细小的柱状晶、等轴晶及部分树枝晶所组成;与基体材料越接近的涂层在结晶时过冷度越大,晶粒尺寸越小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	甘智勇	国网天津市电力公司电力科学研究院	12	18	3.0	3.0
2	李田	国网天津市电力公司电力科学研究院	5	5	2.0	2.0
3	傅思伟	国网天津市电力公司电力科学研究院	4	2	1.0	1.0
4	陈韶瑜	国网天津市电力公司电力科学研究院	12	23	3.0	4.0
5	叶芳	国网天津市电力公司电力科学研究院	6	9	2.0	2.0
6	齐文艳	国网天津市电力公司电力科学研究院	4	4	2.0	2.0