单晶蓝宝石衬底晶片的化学机械抛光工艺研究

• 作者: 余青 刘德福 陈涛
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石衬底 化学机械抛光 交互正交法 材料去除率 表面质量
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 表面质量控制及检测
• 页码范围: 253-261
• 页数: 9页
• 分类号: TG356.28
• 字数: 3097字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.03.038

摘要

目的 设计单晶蓝宝石衬底化学机械抛光的合理方案,探究主要抛光工艺参数对抛光衬底的表面质量和材料去除率的影响,并得到一组材料去除率高且表面质量满足要求的抛光工艺参数.方法 借助原子力显微镜和精密天平分别对衬底表面形貌和材料去除率进行分析,采用单因素实验法探究了抛光粒子、抛光时间、抛光压力和抛光盘转速对蓝宝石衬底化学机械抛光的表面质量和材料去除率的影响,并设计合理的交互正交优化实验寻求一组较优的抛光工艺参数.结果 在蓝宝石衬底化学机械精抛过程中,在抛光时间为0.5 h、抛光压力为45.09 kPa、抛光盘转速为50 r/rain、SiO2抛光液粒子质量分数为15％、抛光液流量为60 mL/min的条件下,蓝宝石衬底材料的去除率达41.89 nm/min,表面粗糙度降低至0.342 nm,衬底表面台阶结构清晰,满足后续外延工序的要求.结论 采用化学机械抛光技术和优化的工艺参数,可同时获得较高的材料去除率和高质量的蓝宝石衬底表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘德福	中南大学机电工程学院	29	274	10.0	16.0
5	陈涛	中南大学机电工程学院	42	215	9.0	13.0
6	余青	中南大学机电工程学院	2	26	2.0	2.0