浅析7nm之后的工艺制程的实现

• 作者: Mark LaPedus
• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路制造 7nm FinFET GlobalFoundries
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 5532字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2017.01.013

摘要

近来,GlobalFoundries宣布将会推进7 nm FinFET工艺,引发了行业对工艺节点、光刻等技术的探讨.这是是来自SemiEngineering年的一篇报道,带领大家了解7 nm工艺及以后的半导体业界的发展方向.