调制比对WSX/a-C多层膜微观组织及摩擦学性能的影响

• 作者: 李昂 杨芳儿 沈靖枫 郑晓华 鲁叶
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二硫化钨 a-C 多层膜 调制比 摩擦磨损性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 387-394
• 页数: 8页
• 分类号: TH117
• 语种: 中文
• DOI: 10.16078/j.tribology.2017.03.015

摘要

采用磁控溅射交替溅射WS2和石墨靶,在200℃的Si基体上制备了不同调制比的WSJa-C多层膜(调制周期约为20 nm).利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子谱(XPS)等手段表征了多层膜的微观结构;采用纳米压痕仪、薄膜应力测试仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试多层膜的机械性能及大气中的的摩擦磨损性能.结果表明:WSx/a-C多层膜表面平整、结构致密,S/W比在0.92～0.97范围内波动,WSx子层以微晶的形式存在,WSJa-C相界面处形成了WC相.随着调制比的增加,多层膜的硬度由7.8 GPa升高至9.0GPa,膜内压应力先减小后增大,结合力单调减小,摩擦系数由0.18增至0.29,磨损率迅速升高.调制比为1:39的多层膜的摩擦学性能最佳,其磨损率约为6.1×l0-15 m3/(N.m).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑晓华	浙江工业大学材料科学与工程学院	35	161	7.0	10.0
2	杨芳儿	浙江工业大学材料科学与工程学院	32	87	6.0	7.0
3	鲁叶	浙江工业大学材料科学与工程学院	2	8	2.0	2.0
4	李昂	浙江工业大学材料科学与工程学院	4	11	2.0	3.0
5	沈靖枫	浙江工业大学材料科学与工程学院	4	11	2.0	3.0