化学气相沉积制备毫米级单晶石墨烯的生长条件调控研究

• 作者: 周国庆 张发培 胡林 魏凌志
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 单晶石墨烯 化学气相沉积 成核密度 铜箔衬底 场效应晶体管
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 4110-4115
• 页数: 6页
• 分类号: O782+.7|O469|O649.1
• 字数: 3545字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.04.019

摘要

石墨烯的形核和生长动力学过程的控制对于单晶石墨烯的制备有着至关重要的影响.采用低压化学气相沉积(CVD)方法,通过优化生长条件参数,在铜箔衬底上生长出4 mm左右的大尺寸单晶石墨烯.通过一系列形貌和结构的表征,证明了样品为高质量的单层单晶石墨烯.同时观察到CVD生长的亚毫米级、A-B型堆垛的多层单晶石墨烯畴,以及由单晶石墨烯共生形成的叠层结构.此外通过采用3种类型的铜箔衬底生长石墨烯,发现铜箔特性如体氧含量等对石墨烯成核密度和单晶石墨烯形貌有重要的影响,并观察到不同类型铜箔的晶面择优取向在CVD生长前后发生不同的转变.最后,利用所生长的大尺度单晶石墨烯制备场效应晶体管,实现高的载流子迁移率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周国庆		7	61	3.0	7.0
5	张发培	中国科学院强磁场科学中心	8	8	1.0	2.0
6	胡林	中国科学院强磁场科学中心	2	7	2.0	2.0
7	魏凌志	中国科学院强磁场科学中心	1	5	1.0	1.0