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干冰表面处理技术在系统级封装的应用
干冰表面处理技术在系统级封装的应用
作者:
石振东
蔡坚
隋春飞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电子元器件
表面质量
干冰清洁
粗糙度
电磁屏蔽镀层
水洗
摘要:
目的 电子元器件表面材料的质量是影响电磁屏蔽镀层和封装材料表面结合力的主要因素,封装元件在切割分离过程中侧壁表面粘附的Cu杂质对屏蔽膜的质量有不利影响.为了提高电子封装体的表面质量,提出一种可应用于高精密电子加工领域的新型表面技术——干冰处理技术.方法 通过实验设计深入研究干冰技术的关键参量(喷射压力、喷射角度和清洗速度)对电子材料表面杂质去除的影响规律,分析了干冰处理封装材料表面的作用机理,对比了干冰作用与传统去离子水处理所获得的电磁屏蔽膜质量.结果 作用机理为干冰的物理冲击和微爆破产生的冲击力将粘附到侧壁上的杂质剥离而去除,实验得到最优作用条件,即在喷射压力为0.2~0.4 MPa,作用速度为40~50 mm/s,喷射角度为40°~70°时,封装元件PCB侧壁表面质量明显改善,表面PCB区域铜杂质的含量由30%降至2%,阻焊层破损率可控,且有效地提高了电磁屏蔽镀层结合力的等级.结论 干冰技术工艺操作简单,作业效率高,且在最优工艺参数下无其他不良产生,可作为未来电子元器件制造领域表面处理的技术支撑.
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篇名
干冰表面处理技术在系统级封装的应用
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
电子元器件
表面质量
干冰清洁
粗糙度
电磁屏蔽镀层
水洗
年,卷(期)
2017,(3)
所属期刊栏目
表面强化及功能化
研究方向
页码范围
177-183
页数
7页
分类号
TG174.48
字数
4646字
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.03.027
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
蔡坚
清华大学微电子所微纳电子系
23
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14.0
2
隋春飞
清华大学微电子所微纳电子系
1
0
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石振东
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研究主题发展历程
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电子元器件
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粗糙度
电磁屏蔽镀层
水洗
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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