基于Lab Windows/CVI的真空镀膜设备的控制系统开发

• 作者: 刘功发 宋一凡 宣科 康豪
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: Lab Windows/CVI 真空镀膜设备 控制系统
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 测量与控制
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TP273
• 字数: 2919字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2017.01.01

摘要

真空镀膜技术是目前具有良好发展前景的一项技术,在工业领域具有重要的作用.本文以安徽纯源真空镀膜科技有限公司生产的真空镀膜设备PIS-212的控制系统为例,介绍了一种基于LabWindows/CVI开发平台的控制系统解决方案,该方案具有开发快速高效、人机界面友好、“一键式”操作方式和功能丰富齐全的特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宣科	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	26	61	4.0	6.0
2	刘功发	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	37	133	5.0	9.0
3	宋一凡	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	5	10	2.0	3.0
4	康豪	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	1	1	1.0	1.0