热处理增强Au纳米颗粒超薄膜光电子发射的研究

• 作者: 张晓楠 杨迎国 王菲 程振东 高兴宇
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金纳米颗粒 超薄膜 光电子发射 热处理
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 同步辐射技术及应用
• 页码范围: 6-11
• 页数: 6页
• 分类号: TL99
• 字数: 4086字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11889/j.0253-3219.2017.hjs.40.120102

摘要

本文制备了平均直径为1.4 nm的11-巯基十一烷酸(Mercaptoundecanoic acid,MUA)修饰的金纳米颗粒,随后通过硅晶片上壳聚糖薄涂层静电吸附制备了厚度约为10 nm的超薄膜,原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)和扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)表明金纳米颗粒在薄膜中分布较为均匀且薄膜较平整.进一步采用紫外光电子能谱(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy,UPS)研究了不同热处理温度对超薄膜的二次电子发射能力的影响.结果表明,适度的热处理有助于超薄膜二次电子发射强度的提高,尤其是经150°C热处理的薄膜二次电子发射峰强是未处理样品的4倍,更高的热处理温度造成二次电子发射峰强度急剧下降.本文结果有助于推动有机配体金纳米颗粒超薄膜在光电子发射材料方面的应用.