防蓝光纳米薄膜的磁控溅射制备技术及性能研究

• 作者: 姜宏 张忠义 张振华 徐日宏 王琦
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 钬靶 防蓝光膜 耐候性
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2960字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2017.05.09

摘要

以稀土材料钬靶,采用中频反应磁控溅射法设计并制备防蓝光多层纳米薄膜,并研究其光学、力学及耐候性等性能.研究表明:膜层对整个蓝光波段反射率达到40%左右,实现蓝光部分阻隔;600~780nm可见光波段透过率高达98%以上,反射率低于1%以下;表面铅笔硬度达到8H,3500次橡皮摩擦无变化;膜层耐候性能优良.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张忠义		4	1	1.0	1.0
2	徐日宏		4	1	1.0	1.0