皮秒激光直写还原石墨烯氧化物薄膜的研究

• 作者: 刘璇 张亚非 徐国军 李必奎 王世明 王鹏波
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光直写技术 石墨烯 微电子 图案化 还原
• 年，卷（期）: 2017,（10）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 1096-1100
• 页数: 5页
• 分类号: TN249|TQ127.11
• 语种: 中文
• DOI: 10.16136/j.joel.2017.10.0057

摘要

利用皮秒激光直写还原绝缘石墨烯氧化物(GO)薄膜,成功制备了图案化的导电石墨烯.先通过旋涂法制备GO薄膜,再使用皮秒激光进行直写扫描,可以同步实现GO的还原和图案化两个关键步骤.光学显微镜成像显示,还原前后GO颜色发生明显变化,图案结构清晰,分辨率较高.结合拉曼光谱和X光电子能谱(XPS)进行表征分析的结果表明,激光直写区域石墨层缺陷程度和含氧量均明显降低,GO还原程度较高.图案化还原后GO(RP-GO)薄膜电学测试的结果表明,可以通过改变皮秒激光的输出功率对RP-GO的导电性能进行调控.本文技术一次性解决了石墨烯的大规模制备、图案化成形和电学性能调控三大难题,开辟了石墨烯基微电子器件生产制造的新道路.