离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性

• 作者: 刘华松 姜玉刚 季一勤 杨霄 王利栓 陈德应
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: Ta2O5薄膜 禁带宽度 Urbach带尾宽度 制备参数 影响权重
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 21-27
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2540字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20172501.0021

摘要

Ta2O5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一.本文针对离子束溅射制备Ta2O5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作,基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性,重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备参数之间的相关性进行研究.研究结果表明:在置信概率95％以上时,对Ta2O5薄膜禁带宽度影响的制备参数,权重大小依次为氧气流量、基板温度、离子束电压;而对Ta205薄膜Urbach带尾宽度影响的制备参数,权重大小依次为基板温度和氧气流量.对于Ta2O5薄膜在超低损耗激光薄膜和高损伤阈值激光薄膜领域内应用,本文的研究结果给出了同步提高薄膜的禁带宽度和降低带尾宽度的重要工艺参数选择方法.