管状空心阴极型磁控溅射技术的研究

• 作者: 王晓光
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 荷电沉积粒子 相变与晶粒度 反应气体活化
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2796字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2017.05.07

摘要

提高磁控溅射薄膜沉积过程总体沉积粒子中的荷电粒子比例,可以使薄膜的沉积过程更具有电磁场作用下的引导性,这将直接导致所得沉积薄膜的组份、结构、表面形貌和晶粒度发生明显的变化.本文通过空心阴极磁控溅射技术,对不同沉积工艺位置条件下所得到的两种氮化钛膜层进行了测试分析和讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓光		6	33	3.0	5.0