磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定

• 作者: 张学军 李龙响 王孝坤 薛栋林 郑立功
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 8-14
• 页数: 7页
• 分类号: TH161
• 字数: 2912字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20172501.0008

摘要

为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定.分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布.利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准.通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试,实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定,对标定误差进行了分析.选择圆形平面光学元件,应用以金刚石颗粒为抛光粉的水基磁流液,对抛光轮直径为360mm的磁流变抛光系统进行去除函数原点标定,单次标定精度达到0.030 mm.实验结果表明:本文提出的去除函数原点标定方法简单可靠,能够满足磁流变抛光技术的修形需求,可为磁流变抛光在光学制造中的应用提供有力支持.