一种优化的硅烷工艺在青铜器保护中的应用

• 作者: 刘金平 孙从征 高秀丽
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 青铜器 硅烷 氨基硅烷 文物保护 金属表面处理
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 生产实践
• 页码范围: 38-40,43
• 页数: 4页
• 分类号: TG17
• 字数: 2810字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2017.06.009

摘要

青铜器原有的硅烷保护工艺存在抗低温性能差的问题,通过三种硅烷处理工艺的对比,新开发了一种优化的氨基硅烷保护工艺,配合合理的预处理工艺,可有效解决低温环境中膜层开裂的问题,延长保护寿命2～4倍,可广泛适用于全国各地的气候环境.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘金平		4	3	1.0	1.0
2	孙从征		4	7	2.0	2.0
3	高秀丽		3	4	1.0	1.0