原子层沉积技术在纳米光子波导中的应用

• 作者: 易葵 朱美萍 范正修 邵建达 邵淑英
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积 纳米光子学 槽波导 条形波导 环形谐振腔
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 1153-1159
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3077字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2017.12.05

摘要

原子层沉积(ALD)是一种独特的薄膜沉积方法,能够实现完美的台阶复形和大面积均匀沉积,为薄膜成分和厚度提供原子级控制.本文将ALD的优点与纳米光子学联系起来,总结了ALD膜层在几种硅波导新结构中的性能优化作用,综述了近年来利用ALD制备纳米光子波导器件的一些研究成果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	邵淑英	中国科学院上海光学精密机械研究所	18	309	9.0	17.0
5	朱美萍	中国科学院上海光学精密机械研究所	7	35	4.0	5.0