Aspen Plus模拟分析补气位置对氨合成塔 入口气氨含量的影响

• 作者: 乔洁 江超 马辉
• 来源期刊: 中氮肥
• 学科: 工学
• 关键词: 氨合成回路 氨分离器 入口气氨含量 流程模拟 AspenPlus 补气位置调整
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 合成氨生产技术
• 页码范围: 17-18
• 页数: 2页
• 分类号: TQ113.26+6.6
• 字数: 1406字
• 语种: 中文

摘要

结合240kt/a合成氨装置的实际生产数据,利用Aspen Plus对现有工艺进行流程模拟,认为在传统中压氨合成回路中,补气位置(氨分之前)设置不合理,导致氨合成塔入口气氨含量高,调整补气位置(氨分之后)后,再进行流程模拟,发现可使氨合成塔入口气氨含量下降0.54%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乔洁		19	6	2.0	2.0
2	马辉		18	6	1.0	1.0
3	江超		6	1	1.0	1.0