干湿磨条件下氧化锆陶瓷表面粗糙度实验

• 作者: 刘春光 吴玉厚 孙健 李颂华 王维东 韩涛
• 来源期刊: 沈阳建筑大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 平面磨削 氧化锆 干/湿磨 表面粗糙度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 机械工程
• 页码范围: 1080-1087
• 页数: 8页
• 分类号: TH16|TB35
• 语种: 中文
• DOI: 10.11717/j.issn:2095-1922.2017.06.15

摘要

目的 研究干磨和湿磨两种工作条件下,金刚石砂轮磨削氧化锆陶瓷时,各磨削参数对其表面粗糙度的影响.方法 通过在干/湿磨条件下对氧化锆陶瓷以不同的砂轮线速度、磨削深度、工件进给速度进行平面磨削,并观察磨削后工件表面粗糙度数值的变化,再利用电子扫描显微镜对磨削后的表面形貌进行分析.结果 在湿磨过程中,当砂轮线速度为50 m/s、磨削深度为0.010 mm、工件进给速度为500 mrn/min时,氧化锆陶瓷件表面粗糙度为0.191 8μm,表面质量最好;在干磨过程中,当砂轮的线速度为50 m/s、磨削深度为0.010 mm、工件进给速度为500 mm/min时,氧化锆陶瓷件表面粗糙度为0.189 5μm,表面质量最好.结论 干湿磨条件下各磨削参数对氧化锆陶瓷表面粗糙度影响主次顺序分别为砂轮线速度、磨削深度、工件进给速度.同时在小磨削量的精密磨削中,干磨的表面粗糙度要优于湿磨的表面粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴玉厚		281	1922	22.0	31.0
2	刘春光		39	118	7.0	9.0
3	李颂华		59	261	9.0	13.0
4	孙健		45	123	7.0	9.0
5	韩涛		15	35	4.0	5.0
6	王维东		8	22	3.0	4.0