Ni纳米颗粒催化氮化反应制备氮化硅粉体

• 作者: 古亚军 张少伟 张海军 李发亮 鲁礼林
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅 催化氮化 镍纳米颗粒 密度泛函理论
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 页码范围: 120-125
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.14062/j.issn.0454-5648.2017.01.17

摘要

采用化学原位还原法将Ni纳米颗粒均匀负载于Si粉表面,研究了Ni纳米催化剂用量对不同温度(1 200～1 400℃)时Si粉的氮化行为的影响及Si3N4粉体的形成及机理.结果表明:含2％(质量分数,下同)Ni纳米催化剂的样品1 350℃氮化2h后,其中残留的Si含量仅为3％;Ni纳米催化剂的引入可以有效地促进Si3N4晶须的生成;密度泛函理论计算表明,Ni纳米颗粒催化剂可以促进N2分子在较低温度下解离为N原子,进而加快了Si粉的氮化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张少伟	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	26	104	6.0	8.0
2	张海军	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	68	152	6.0	9.0
3	李发亮	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	18	62	4.0	7.0
4	鲁礼林	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	14	81	4.0	8.0
5	古亚军	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	8	28	3.0	5.0