插层法制备g-C3N4/高岭石复合材料及其光学性能

• 作者: 孙志明 李春全 杜贝贝 程宏飞
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: 高岭石 g-C3N4 插层法 结构 光催化性能
• 年，卷（期）: 2017,（7）
• 页码范围: 1258-1262,1266
• 页数: 6页
• 分类号: X703
• 字数: 4606字
• 语种: 中文

摘要

高岭石表面与层间具有较高的活性和良好的规范性,因而适合对其进行化学修饰,在催化剂负载方面值得深入研究.本文以甲氧基嫁接的高岭石为前躯体,采用置换插层法制备出高岭石/三聚氰胺插层复合物,进一步在550 ℃煅烧获得g-C3N4/高岭石复合光催化剂.利用X射线衍射、傅里叶红外和热重-差热分析等手段对复合光催化材料进行表征,并对其光催化性能进行研究.结果表明,当高岭石与光催化剂前驱体三聚氰胺质量比为1∶1和1∶2时,较难缩聚得到g-C3N4;然而,当高岭石与三聚氰胺质量比为1∶3、1∶4、1∶5时,可获得不同g-C3N4占比的复合材料,其整体分散状况因高岭石的加入而有效改善,这表明高岭石的加入能有效避免g-C3N4的团聚.所制备的高岭石负载石墨相氮化碳光催化材料具有较好的光学性能,在探索经济、高效、绿色矿物基复合光催化剂方面研究具有重要意义.