基于约束刻蚀原理的电化学微纳加工研究进展

• 作者: 何权烽 曹永智 田昭武 胡振江 詹东平 赵学森 闫永达 韩联欢
• 来源期刊: 中国科学（化学）
• 关键词: 电化学微纳加工 电化学加工 约束刻蚀剂层技术 外场调制 电极过程动力学
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 专题论述
• 页码范围: 594-602
• 页数: 9页
• 语种: 中文
• DOI: 10.1360/N032016-00217

摘要

与机械加工相比,电化学加工技术具有无刀具磨损、无热效应、无机械损伤、加工效率高等优点,而且适用于柔性、脆性及超硬材料,具备传统方法难以实现的复杂结构加工能力,因而在航空航天、汽车、微电子等领域有着重要应用,日益成为一种重要的工业制造技术.随着超大规模集成电路(ULSI)、微机电系统(MEMS)、微全分析系统(μ-TAS)、现代精密光学系统等高技术产业的迅速发展,功能性结构/器件的微型化和集成化的要求越来越高.由于传统电化学只适用于金属材料,为了应对微纳制造的时代要求,拓展电化学加工的材料普适性,1992年田昭武院士提出了具有我国自主知识产权的约束刻蚀剂层技术(CELT).一般的,约束刻蚀包括3个步骤:(1)通过电化学、光化学或光电化学的方法在模板电极表面生成刻蚀剂;(2)通过后续的均相化学反应或自由基衰变反应将刻蚀剂约束在微/纳米厚度的液层内;(3)将模板电极逼近加工基底,当约束刻蚀剂层接触被加工基底时,通过刻蚀反应实现微纳加工.最近,联合课题组通过仪器、原理和方法3个方面的努力,引入外部物理场调制技术,实现一维铣削、二维抛光、三维微/纳结构加工,大幅提升了CELT的技术水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫永达		34	237	9.0	13.0
2	曹永智		9	35	3.0	5.0
3	赵学森		11	49	4.0	6.0
4	胡振江		10	36	4.0	5.0
5	韩联欢		1	0	0.0	0.0
6	何权烽		1	0	0.0	0.0
7	田昭武		1	0	0.0	0.0
8	詹东平		1	0	0.0	0.0