三维封装铜柱应力及结构优化分析

• 作者: 江伟 王丽凤
• 来源期刊: 焊接学报
• 学科: 工学
• 关键词: 有限元模拟 铜柱应力 正交试验 参数优化
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 页码范围: 112-116
• 页数: 5页
• 分类号: TG404
• 字数: 3781字
• 语种: 中文

摘要

文中利用有限元模拟软件ANSYS对三维立体封装芯片发热过程中整体应力及局部铜柱的应力情况进行了分析,并对三维封装的结构进行了优化设计.结果表明,最大应力分布在铜柱层,铜柱的应力最大点出现在铜柱外侧拐角与底部接触位置.以铜柱处最大应力作为响应,进行了结构参数优化,采用三因素三水平正交试验方法,分别使用铜柱直径、铜柱高度、铜柱间距三个影响因素作为变化的结构参数.结果表明,铜柱直径的变化对等效应力影响最大,铜柱间距次之,铜柱高度影响最小.且发现随着铜柱高度、铜柱间距、铜柱直径的不断增大其铜柱外侧拐角与底部接触位置的最大等效应力不断减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽凤	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	27	223	8.0	14.0
2	江伟	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0