负偏压对纯Cr涂层表面液滴及涂层结合力的影响

• 作者: 刘艳红 张文 曾小安 李怀林 王晓婧 王浩然 邱长军
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 负偏压 纯Cr涂层 液滴 膜/基结合力
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 177-181
• 分类号: TG146.4+14
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2017.02.10

摘要

采用多弧离子镀技术于不同负偏压条件下在锆合金表面沉积纯Cr涂层.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和划痕仪分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向变化规律,并对涂层膜基结合力进行表征.结果表明:负偏压不同,纯Cr涂层上液滴分布和择优生长取向都有较大的影响.其中随着负偏压的增加,纯Cr涂层表面液滴的数量和尺寸先减少后增加的趋势,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(200)晶面转向(110)晶面;纯Cr涂层的膜/基结合力随负偏压的增加逐渐增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱长军	南华大学机械工程学院	126	399	9.0	12.0
2	王晓婧		11	26	4.0	4.0
3	刘艳红		17	43	4.0	5.0
4	李怀林		17	43	4.0	5.0
5	张文	南华大学机械工程学院	11	16	3.0	3.0
6	曾小安	南华大学机械工程学院	7	16	3.0	3.0
7	王浩然	南华大学机械工程学院	11	17	3.0	3.0