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直流磁控溅射技术低温制备高电导和高透明的氢掺杂AZO薄膜
直流磁控溅射技术低温制备高电导和高透明的氢掺杂AZO薄膜
作者:
刘智
卢景霄
徐晴
谷锦华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AZO薄膜
氢掺杂
直流磁控溅射
电阻率
摘要:
采用直流磁控溅射的方法制备掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜,通过溅射过程中加入氢气的方法来降低AZO薄膜的电阻率.结果表明:通过加入氢气的方法能有效降低AZO薄膜的电阻率;在衬底温度为225℃的低温条件下,通过优化其它沉积参数,制备了电阻率最低为4.5 ×l0-4Ω·cm、可见光区平均透光率在90%的优质AZO薄膜.这说明在溅射过程中引入一定流量的氢气,H可以起到掺杂作用,提高AZO薄膜的电导率.
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文献信息
篇名
直流磁控溅射技术低温制备高电导和高透明的氢掺杂AZO薄膜
来源期刊
真空科学与技术学报
学科
物理学
关键词
AZO薄膜
氢掺杂
直流磁控溅射
电阻率
年,卷(期)
2017,(2)
所属期刊栏目
功能薄膜
研究方向
页码范围
161-164
页数
分类号
O484.1
字数
语种
中文
DOI
10.13922/j.cnki.cjovst.2017.02.08
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
谷锦华
郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室
25
103
6.0
8.0
2
卢景霄
郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室
100
570
12.0
17.0
3
刘智
郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室
4
6
2.0
2.0
4
徐晴
郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室
1
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
AZO薄膜
氢掺杂
直流磁控溅射
电阻率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空科学与技术学报
主办单位:
中国真空学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905
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