基于正交实验法的VO2薄膜最佳制备参数研究

• 作者: 侯典心 宋福印 路远
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: VO2 正交实验 磁控溅射 X射线衍射 优选参数
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 146-153
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2017.02.06

摘要

为研究磁控溅射法中溅射功率、氧氩比、基底温度、工作气压、溅射时间等对VO2薄膜制备的影响,寻找VO2薄膜的最佳制备参数,本文采用正交实验法,设计了5因素4水平的16组实验,然后按照设计的正交实验方案实施了实验,在实验中严格控制实验条件并记录;实验完成后采用X射线衍射方法对实验结果进行测试并分析了氧化钒薄膜的物相组分,探究了制备条件因素与水平对薄膜组分的影响;然后采用直观比较的方法,从16组实验中选取符合结果或接近期望的实验组.最后得出制备VO2薄膜的优选参数为:溅射功率220 W,压强0.8Pa,基底温度300℃,氧氩比为0.5∶25.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	路远		34	257	10.0	15.0
5	侯典心		3	5	2.0	2.0
9	宋福印		2	2	1.0	1.0