基片偏压占空比对多弧离子镀TiAlSiN涂层形貌及力学性能的影响

• 作者: 林修洲 王璐 金永中 陈昌浩
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 TiAlSiN涂层 占空比 表面形貌 力学性能
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 237-240
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 2254字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.11.032

摘要

目的 采用多弧离子镀膜技术在硬质合金基体表面沉积TiAlSiN涂层,研究占空比参数对TiAlSiN涂层的表面形貌和力学性能的影响.方法 使用扫描电子显微镜对涂层的形貌进行观察,使用自动划痕仪、纳米压痕仪对涂层的力学性能进行检测.结果 占空比在10%~70%范围内增加,离子轰击得到加强,涂层表面得到很好的改善,大颗粒与微坑缺陷数量逐渐减少.当占空比增大到90%时,大颗粒和微坑缺陷数量反而增多.结论 随着占空比的增加,纳米硬度、弹性模量和涂层结合力均先增大后减小,占空比为50%时,分别达到最大值48.15 GPa、518.24 GPa、50.55 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林修洲	四川理工学院材料科学与工程学院	40	181	7.0	11.0
2	金永中	四川理工学院材料科学与工程学院	89	417	11.0	16.0
3	王璐	四川理工学院材料科学与工程学院	5	4	1.0	2.0
4	陈昌浩	四川理工学院材料科学与工程学院	6	10	2.0	3.0