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热处理对Sb:SnO2透明导电薄膜光电性能的影响
热处理对Sb:SnO2透明导电薄膜光电性能的影响
作者:
倪佳苗
梁斐
赵修建
郑敏栋
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Sb:SnO2
磁控溅射
红外反射
热处理
摘要:
由烧结法制备了5Sb2O5·95SnO2(mol%)陶瓷靶材,以所制靶材利用射频磁控溅射法在石英玻璃基片上制备得到高质量的Sb:SnO2(ATO)透明导电薄膜,研究了热处理温度对ATO薄膜的结构和光学与电学性能的影响.结果表明:热处理对ATO薄膜的相结构,结晶质量及性能均有一定的影响.随着温度升高,所制薄膜的晶粒尺寸逐渐长大,方块电阻逐步减小,最小值为9.3Ω/□;红外反射率先增大后减小,并在热处理温度为600℃时达到极大值,为89%.薄膜可见光透过率均在80%以上,温度为600℃时最高达到91.3%.
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篇名
热处理对Sb:SnO2透明导电薄膜光电性能的影响
来源期刊
硅酸盐通报
学科
物理学
关键词
Sb:SnO2
磁控溅射
红外反射
热处理
年,卷(期)
2017,(9)
所属期刊栏目
专题论文
研究方向
页码范围
2951-2957
页数
7页
分类号
O484
字数
3943字
语种
中文
DOI
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作者信息
序号
姓名
单位
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H指数
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1
赵修建
武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室
220
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2
倪佳苗
武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室
6
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4.0
6.0
6
梁斐
武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室
1
2
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武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室
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研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
硅酸盐通报
主办单位:
中国硅酸盐学会
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-1625
CN:
11-5440/TQ
开本:
16开
出版地:
北京市朝阳区东坝红松园1号中材人工晶体研究院733信箱
邮发代号:
80-774
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
8598
总下载数(次)
10
总被引数(次)
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