浅议国内外超净高纯氢氟酸工艺技术差异

• 作者: 刘海霞
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 集成电路 超净高纯氢氟酸 蚀刻剂 砷
• 年，卷（期）: 2017,（10）
• 所属期刊栏目: 综述与专论
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: TQ124.3
• 语种: 中文

摘要

集成电路是资本密集、技术密集型行业,同时又长期遵循着著名的“摩尔定律”,对企业在技术实力和研发投入上有着严苛的要求,相应对原料蚀刻剂超净高纯氢氟酸产品质量也有苛刻要求.从市场需求方面引出国内企业与国外企业的超净高纯氢氟酸质量差异,又详细对比分析了国内企业和国外企业执行标准的差异和原因以及工艺技术制备的差异,末尾结合集成电路的市场状况说明了中国超净高纯氢氟酸制备的发展趋势,以此来促进国内半导体产业的发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘海霞		27	95	5.0	8.0