退火对Ga2O3薄膜特性的影响

• 作者: 庄仕伟 胡大强 董鑫 许恒 马征征
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化镓 退火 蓝宝石衬底 金属有机物化学气相沉积法
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 606-610
• 页数: 5页
• 分类号: TN383
• 字数: 3427字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20173805.0606

摘要

采用金属有机物化学气相沉积法在c面蓝宝石衬底上生长了高质量的β-Ga2O3薄膜,并将样品分别在真空、氧气、氮气氛围下退火30 min,研究了各类退火工艺对Ga2O3薄膜特性的影响,对退火所得的薄膜进行了X射线衍射、光致发光谱、紫外透射谱和原子力显微镜扫描的研究.结果表明,各类退火工艺均能够优化薄膜的晶体质量和表面形貌,同时有效改善了薄膜的光学性质.其中,氧气退火后的样品在可见光波段透射率高达83％,且吸收边更加陡峭;表面粗糙度降至0.564 nm,其表面更为平整.这些结果说明氧气退火对晶体质量的提高最为显著.氮气、真空退火的样品在光致发光谱中出现365nm的发光峰,这是大量氧空位的存在导致的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董鑫	吉林大学电子科学与工程学院	6	13	2.0	3.0
2	胡大强	吉林大学电子科学与工程学院	4	29	2.0	4.0
3	马征征	吉林大学电子科学与工程学院	1	3	1.0	1.0
4	庄仕伟	吉林大学电子科学与工程学院	1	3	1.0	1.0
5	许恒	吉林大学电子科学与工程学院	1	3	1.0	1.0