锰催化还原工艺处理高浓度含双氧水废水工程实践

• 作者: 厉晓华 张云秀 王春冬
• 来源期刊: 给水排水
• 关键词: 半导体废水 双氧水 锰砂 催化还原
• 年，卷（期）: 2017,（8）
• 所属期刊栏目: 工业给排水
• 页码范围: 63-64
• 页数: 2页
• 字数: 1486字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8471.2017.08.016

摘要

随着半导体制造先进制程的推进,废水中双氧水的浓度不断上升,造成了总排放口COD偏高.采用锰催化还原工艺处理高浓度含双氧水废水,工程实践表明:在进水双氧水浓度达到3 000 mg/L以上时,将pH调至10.5～11.5,控制锰砂塔流速7～8 m/s,反应3 min,双氧水的去除率可以达到99％以上,总排放口COD由355mg/L降至150mg/L.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王春冬		7	17	3.0	4.0
2	厉晓华		5	11	2.0	3.0
3	张云秀		4	8	1.0	2.0