UV/Na2S2O4体系中棉织物上活性染料的浸轧剥色研究

• 作者: 刘波 孙建平 解昌峰 龙家杰
• 来源期刊: 纺织导报
• 关键词: UV/Na2S2O4体系 棉织物 剥色 活性染料 浸轧
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 染整技术
• 页码范围: 78-82
• 页数: 5页
• 分类号: TS193.632
• 语种: 中文

摘要

采用紫外光引发和催化还原剂分解的方法,首次对UV/Na2S2O4体系中棉织物上活性染料的低温浸轧剥色进行了研究.以单因素实验法探讨了工作液pH值、还原剂保险粉用量、织物上轧余率和剥色时间等对棉上活性染料的剥色率及织物强力保留率的影响,同时对剥色前后棉纤维的表面形态特征采用扫描电镜进行了观察分析.实验结果显示,染色棉织物经浸轧含有还原剂保险粉的剥色工作液后,在紫外光(UV)的引发和催化下可有效实现对织物上固着活性染料的低温剥色处理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙家杰	苏州大学纺织与服装工程学院	55	338	11.0	15.0
2	解昌峰	苏州大学纺织与服装工程学院	5	22	2.0	4.0
3	刘波	苏州大学纺织与服装工程学院	20	108	6.0	10.0
4	孙建平	苏州大学分析测试中心	16	144	6.0	11.0