nc-Ge/SiNx多层膜的光致发光特性

• 作者: 何宏平 李悰 许彦鑫
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米锗 光致发光 辐射复合
• 年，卷（期）: 2017,（9）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 1173-1178
• 页数: 6页
• 分类号: O433|O472+.3
• 字数: 4008字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20173809.1173

摘要

通过将a-Ge∶H/a-SiNx多层膜进行氧化,制备了nc-Ge/SiNx多层膜.观察到了室温下的强烈可见光发射,发光波长为500 nm.通过分析,排除了与量子限制效应有关的光发射机制,也排除了与Si和N相关的缺陷产生的复合机制,认为该发光源于氧化后的a-SiNx介质层中带尾态之间的辐射复合,最有效的激发能量约为介质层的带隙.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许彦鑫	中国电子科技集团公司第三十八研究所	8	4	1.0	2.0
2	李悰	中国电子科技集团公司第三十八研究所	4	1	1.0	1.0
6	何宏平	中国电子科技集团公司第三十八研究所	2	0	0.0	0.0