H2/Ar流量比对纳米金刚石形貌和结构的影响

• 作者: 崔晓慧 彭环洋 汪建华 熊礼威 龚国华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: H2/Ar流量比 NCD薄膜 表面形貌 MPECVD 平整度 晶粒尺寸
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 45-50
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.008

摘要

目的 研究不同H2/Ar流量比对纳米金刚石形貌和结构的影响.方法 采用MPECVD法制备了质量较好的纳米金刚石薄膜,并通过SEM、XRD对金刚石薄膜的形貌、结构以及晶粒尺寸进行了测试,还使用Raman对金刚石D峰、纳米金刚石特征峰(TPA)的变化趋势进行了分析.结果 当Q(H2):Q(Ar)=50:49时,制备的金刚石晶粒为亚微米范畴,其平均晶粒尺寸为250 nm,表面平整度较差,出现堆积层错现象,但金刚石特征峰(D峰)最强,生长速率达到最大,约为125 nm/h;Q(H2):Q(Ar)=10:89时,表面平整度高,二次形核现象明显,平均晶粒尺寸为20 nm;进一步减小H2/Ar流量比为0时,可发现晶粒由纳米变为超纳米,二次形核更为明显,表面平整更高,其平均晶粒尺寸为3 nm,另外Raman测试发现金刚石特征峰强度随H2/Ar流量比的减小而减小,而纳米金刚石特征峰随H2/Ar流量比的减小而增大.结论 随着H2/Ar流量比的增加,金刚石表面平整度逐渐变差,表面粗糙度也在逐渐增大,同时金刚石的晶粒尺寸和生长速率在Q(H2):Q(Ar)=50:49时达到最大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学材料科学与工程学院	123	698	14.0	19.0
2	熊礼威	武汉工程大学材料科学与工程学院	37	243	9.0	14.0
3	崔晓慧	武汉工程大学材料科学与工程学院	8	47	3.0	6.0
4	彭环洋	武汉工程大学材料科学与工程学院	5	25	2.0	5.0
5	龚国华	武汉工程大学材料科学与工程学院	5	11	2.0	3.0