不同晶面单晶硅在飞秒激光作用下的行为特性

• 作者: 张欣 肖荣诗 黄婷
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光制造 飞秒激光 晶粒取向 电子背散射衍射 单晶硅
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: "超快激光加工与微纳制造"专题
• 页码范围: 108-114
• 页数: 7页
• 分类号: TN249
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201744.0102012

摘要

不同晶面单晶硅的物理性能和化学性能的微小差异会对微纳加工结果产生明显影响.利用电子背散射衍射(EBSD)技术,研究了不同晶面单晶硅在飞秒激光作用下的行为特性.结果表明,(111)面单晶硅在飞秒激光能量密度低于和高于破坏阈值时分别形成非晶区和刻蚀区,而(100)面单晶硅在不同能量飞秒激光的作用下只形成刻蚀区.飞秒激光在微纳加工领域得到广泛应用,对晶体材料的不同晶面在飞秒激光作用下的行为特性的研究有助于制造新型微纳器件.