氧含量对磁控溅射Nb掺杂TiO2薄膜结构与性能的影响

• 作者: 林钰 苏雷生 董林 辛荣生
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 氧含量 NTO薄膜 结构 光电性能
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 255-259
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3741字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2017.03.03

摘要

采用三靶磁控共溅射法在玻璃衬底上制备了Nb掺杂TiO2透明导电薄膜.研究了在不同氧含量时薄膜的结构和光电性能.实验结果表明:氧含量的变化能改变Nb掺杂TiO2薄膜晶体的晶粒尺寸、表面形貌、透光率和电阻率,当溅射氩气中通入2％氧气时,可得到性能最佳的锐钛矿相Nb掺杂TiO2薄膜,所得薄膜可见光透过率高达80％,电阻率降至2.5 ×10-3Ωcm.并且,Nb掺杂导致了TiO2薄膜的吸收限产生蓝移,且蓝移程度随氧含量的改变而有所不同.研究认为,氧含量改变了Nb掺杂TiO2薄膜晶体的结构形貌以及Nb杂质和氧空位提供的有效载流子浓度,从而直接影响了Nb掺杂TiO2薄膜的光电性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林钰	河南教育学院化学系	34	267	9.0	15.0
2	辛荣生	郑州大学材料科学与工程学院	27	246	9.0	14.0
3	董林	郑州大学材料科学与工程学院	14	40	4.0	6.0
4	苏雷生	郑州大学材料科学与工程学院	4	6	2.0	2.0