磁过滤阴极弧法制备CrCN薄膜结构与组分研究

• 作者: 官家建 廖斌 李元 李彬 林华 梁宏 王浩琦 覃礼钊
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: CrCN 结构分析 磁过滤真空阴极弧沉积 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 9-14
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3688字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.002

摘要

目的 通过磁过滤阴极弧沉积技术制备质量优异的CrCN涂层.研究乙炔/氮气混合气体流量以及基底偏压对薄膜结构和成分的影响.方法 采用磁过滤真空阴极弧沉积技术,在20~100 mL/min变化的乙炔/氮气混合气体流量参数下沉积CrCN复合薄膜.通过X射线衍射、场发射电子显微镜、扫描探针显微镜、X射线光电子能谱仪、透射电镜,对薄膜的物相结构和形貌进行分析.结果 随着气体流量的增加,CrCN复合薄膜的晶粒逐渐减小最终向非晶化转变.TEM结果表明,在CrCN复合薄膜中有大量几纳米到十几纳米的纳米晶浸没在非晶成分中.SPM表明,随着基底偏压由–200 V增大到–150 V,CrCN薄膜的表面粗糙度Sa由0.345 nm上升至4.38 nm.XPS、TEM和XRD数据表明,薄膜中Cr元素主要以单质Cr、CrN以及Cr3C2的形式存在.结论 采用磁过滤真空阴极弧沉积技术制备的CrCN复合薄膜具有纳米晶-非晶镶嵌结构.该方法沉积的CrCN薄膜的表面粗糙度与基底负偏压有关.混合气体的流量变化对薄膜组分的变化几乎无影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	覃礼钊	西南大学材料与能源学部	16	43	4.0	5.0
2	廖斌	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室	27	69	4.0	7.0
3	梁宏	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室	12	47	5.0	6.0
4	李元	西南大学材料与能源学部	21	86	6.0	8.0
5	林华	西南大学材料与能源学部	14	89	6.0	9.0
6	王浩琦	西南大学材料与能源学部	5	16	3.0	3.0
7	官家建	西南大学材料与能源学部	1	4	1.0	1.0
8	李彬	西南大学材料与能源学部	2	5	1.0	2.0