磁控溅射工艺对金属镀膜塑料结合力影响的研究

• 作者: 曹一鸣 潘俊锋 黄沛
• 来源期刊: 机电工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金属薄膜 磁控溅射 结合力 塑料
• 年，卷（期）: 2017,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2004字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9492.2017.07.004

摘要

为了研究溅射工艺对金属镀膜塑料结合力的影响,以PS塑料为基底,采用磁控溅射工艺,通过设计L9(34)正交试验,在不同本体真空度、不同靶基间距、不同溅射功率、不同溅射时间下对PS塑料进行镀铬,然后对镀膜塑料进行结合力测试,分磁控溅射工艺参数对结合力的影响.实验结果表明:PS塑料基底在真空室本体真空度为1.1×10-2 Pa,靶基间距为70 mm,溅射功率为800 W,溅射时间为120 s的条件下,基膜结合力最为理想.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹一鸣		14	16	2.0	3.0
2	潘俊锋		6	6	1.0	2.0
3	黄沛		1	0	0.0	0.0