蒙特卡罗模拟分析电子束发射度对照射量空间分布影响

• 作者: 代志勇 李勤 王毅
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 照射量 电子束发射度 轫致辐射 蒙特卡罗 加速器
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 脉冲功率技术
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: O434.1
• 字数: 2551字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201729.170029

摘要

加速器靶前正前方1 m处的照射量是衡量加速器光源辐射能力的重要物理参量.电子束轰击高原子序数靶产生的X射线空间分布具有很强的前冲性,照射量空间分布与电子束的发射度密切相关.采用高斯函数对不同电子束发射度条件下入射电子的空间分布和角度分布进行建模.应用蒙特卡罗方法对电子束打靶的轫致辐射过程进行模拟,分析电子束发射度对照射量的影响.同时还对整靶结构和叠靶结构下的轫致辐射光源照射量进行计算比较.结果表明,电子束的发散角是影响轫致辐射光源照射量的主要因素.与采用整靶结构相比,采用叠靶结构所获得的照射量空间分布基本一致,在正前方小角度范围内(0～4°)的照射量有2％～3％的降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李勤	中国工程物理研究院流体物理研究所中国工程物理研究院脉冲功率科学与技术重点实验室	29	98	6.0	8.0
2	代志勇	中国工程物理研究院流体物理研究所中国工程物理研究院脉冲功率科学与技术重点实验室	35	101	5.0	9.0
3	王毅	中国工程物理研究院流体物理研究所中国工程物理研究院脉冲功率科学与技术重点实验室	15	35	4.0	5.0