半导体生产含砷废水处理回用工程

• 作者: 单吉云 卢纪军 惠峰 李苏滨 李雪峰 柳廷龙 田东 肖祥江
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 含砷废水 回用 半导体材料
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 工程实例
• 页码范围: 96-98
• 页数: 3页
• 分类号: X703
• 语种: 中文

摘要

采用沉淀法—电絮凝法—气浮法—膜分离法四段组合工艺对含砷废水进行处理,原水含砷180~230 mg/L,经该工艺处理后出水含砷<0.03 mg/L,去除率>99.9%.工程运行实践证明:该系统运行稳定、处理效果高,产出的清水用作生产用循环冷却水,大大降低了生产成本.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柳廷龙		2	0	0.0	0.0
2	肖祥江		1	0	0.0	0.0
3	单吉云		1	0	0.0	0.0
4	李苏滨		1	0	0.0	0.0
5	惠峰		1	0	0.0	0.0
6	李雪峰		1	0	0.0	0.0
7	田东		1	0	0.0	0.0