半导体(ZnO)薄膜射频磁控溅镀工艺控制参数研究

• 作者: 杨雪君
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体(ZnO)薄膜 射频磁控溅镀 控制参数
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 激光应用与系统
• 页码范围: 53-56
• 页数: 4页
• 分类号: TN209
• 字数: 3223字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14016/j.cnki.jgzz.2017.04.053

摘要

氧化锌(ZnO)是一种用途广泛用途的新型半导体材料,具有优良的电学和光学特性,是制备半导体发光器和半导体激光器的理想材料.其制备方法有很多,射频磁控溅镀法因膜层结构均匀、致密、性能良好而被广泛应用.本文研究了溅镀压力、氧气浓度、溅镀功率和基板温度对溅镀工艺的影响,得出了最佳控制参数,对溅镀工艺的提高,氧化锌(ZnO)薄膜电气性能的提升具有积极意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨雪君		38	22	2.0	2.0