聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究

• 作者: 张榕 杜英辉 樊启文 王华
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 聚焦重离子束溅射 同位素靶 均匀性 材料利用率
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 942-948
• 页数: 7页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2017.51.05.0942

摘要

研究了聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率和均匀性.通过实验确定了两种溅射距离(7 mm和14 mm)下沉积靶的纵向和横向厚度分布,确定了提高靶均匀性的有效方法——基衬公转和沉积1/2厚度后基衬调头,确定了匹配材料利用率和均匀性的最佳几何参数.制备了5种同位素氧化物靶和9种高熔点金属同位素靶,应用于核物理测量实验.实验表明,源-衬距离为7 mm和14 mm时,在9 mm×10 mm成膜区域内,基衬中心距靶(源)材料水平界面垂直距离为9 mm和11 mm时可获得均匀的靶膜和最高的材料利用率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜英辉	中国原子能科学研究院核物理研究所	9	20	3.0	4.0
2	樊启文	中国原子能科学研究院核物理研究所	9	4	1.0	2.0
3	张榕	中国原子能科学研究院核物理研究所	6	4	1.0	2.0
4	王华	中国原子能科学研究院核物理研究所	4	0	0.0	0.0