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摘要:
技术创新是推动产业发展的永恒动力.当前,在科技强国的背景下,以碳化硅、氮化镓为代表的第三代宽禁带半导体材料凭借着其优异的特性得到了世界各国的高度重视.我国政府高度重视第三代半导体材料的研究与开发,启动了一系列重大研究项目.
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文献信息
篇名 第三代半导体产业概况剖析
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词 第三代半导体 碳化硅 氮化镓
年,卷(期) 2017,(2) 所属期刊栏目 创新应用
研究方向 页码范围 87-90
页数 4页 分类号 TN305
字数 4112字 语种 中文
DOI 10.19339/j.issn.1674-2583.2017.02.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李春 1 26 1.0 1.0
2 邓君楷 1 26 1.0 1.0
传播情况
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2020(9)
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  • 二级引证文献(5)
研究主题发展历程
节点文献
第三代半导体
碳化硅
氮化镓
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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