ICP-AES法测定二氧化硅标准物质中微量杂质元素的研究

• 作者: 张丽琪 张笑旻 杨静 陈永康
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化硅标准物质 电感耦合等离子发射光谱 微量杂质
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 分析测试
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: O657.3
• 字数: 3337字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16247/j.cnki.23-1171/tq.20170522

摘要

本文研究建立ICP-AES测定SiO2标准物质中杂质元素含量的方法.钛、钙、镁、钠、铁、钻、铝、铜、锰、铅、铬、镍的质量浓度分别在0.1～1.5,0.05～1.0,0.05～1.0,0.05 ～ 1.0,0.05～2.0,0.1～1.0,0.05～2.5,0.1～1.0,0.1～1.0,0.1～1.0,0.05～1.0,0.05 ～ 1.0mg·L1范围内与其光谱强度线性相关,相关系数均大于0.999;方法检出限分别为0.005,0.05,0.015,0.2,0.05,0.05,0.15,0.015,0.005,0.15,0.02,0.05mg· L-1,加标回收率均在90.0％ ～ 115.0％之间,测定结果的相对标准偏差均小于5％(n=6).表明此方法准确度和精密度以及重复性,可用于SiO2标准物质中杂质的含量测定,也可用于高纯石英原料及制品的杂质含量分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈永康		10	29	4.0	5.0
2	杨静		9	22	2.0	4.0
3	张笑旻		8	10	2.0	3.0
4	张丽琪		4	8	1.0	2.0