7nm半导体的制程技术分析

• 作者: 张竞扬
• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体 摩尔定律 7 nm 鳍式场效晶体管
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 4057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2017.02.012

摘要

7nm制程节点将是半导体厂推进摩尔定律(Moore's Law)的下一重要关卡.半导体进入7 nm节点后,前段与后段制程皆将面临更严峻的挑战,半导体厂已加紧研发新的元件设计构架,以及金属导线等材料,兼顾尺寸、功耗及运算性能表现.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张竞扬		1	2	1.0	1.0