占空比对多弧离子镀纯Cr涂层表面形貌的影响

• 作者: 刘艳红 张文 曾小安 李怀林 王晓婧 王浩然 邱长军
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 占空比 纯Cr涂层 表面形貌
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 172-174
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2017.04.038

摘要

利用多弧离子镀技术于不同的占空比条件下在锆合金表面制备出纯Cr涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向的变化规律,并利用Image J软件对纯Cr涂层表面的孔隙率进行分析.结果表明:占空比的改变显著影响着纯Cr涂层的微观形貌、择优生长取向和孔隙率.随着占空比的增大,纯Cr涂层的表面大颗粒数目和孔隙率逐渐减少,表面形貌得到改善,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(110)晶面转向(200)晶面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱长军	南华大学机械工程学院	126	399	9.0	12.0
2	王晓婧		11	26	4.0	4.0
3	刘艳红		17	43	4.0	5.0
4	李怀林		17	43	4.0	5.0
5	张文	南华大学机械工程学院	11	16	3.0	3.0
6	曾小安	南华大学机械工程学院	7	16	3.0	3.0
7	王浩然	南华大学机械工程学院	11	17	3.0	3.0