添加剂对微晶玻璃化学机械抛光的影响

• 作者: 储向峰 王金普 白林山
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 微晶玻璃 化学机械抛光 络合剂 氧化剂 润滑剂
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 53-57
• 页数: 5页
• 分类号: TH117.1
• 字数: 4245字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2017.11.010

摘要

利用自制抛光液对微晶玻璃进行化学机械抛光,研究络合剂、氧化剂、润滑剂种类及添加量对微晶玻璃化学机械抛光材料去除速率和表面粗糙度的影响.结果表明:抛光液中加入质量分数0.2％的EDTA络合剂后,能大幅降低材料表面粗糙度;加入质量分数2％的过硫酸铵氧化剂后能得到较光滑的材料表面和较高的材料去除速率;加入质量分数为0.2％的丙三醇润滑剂后能降低材料表面粗糙度.将EDTA络合剂、过硫酸铵氧化剂丙、三醇润滑剂加入SiO2抛光液中对微晶玻璃进行化学机械抛光,利用原子力显微镜观察抛光微晶玻璃抛光前后的表面形貌.结果表明,抛光后微晶玻璃表面极为平整,达到了0.12 nm的纳米级光滑表面,且材料去除速率达到72.8 nm/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰	安徽工业大学化学与化工学院	59	209	6.0	11.0
2	白林山	安徽工业大学化学与化工学院	60	293	10.0	14.0
3	王金普	安徽工业大学化学与化工学院	5	21	4.0	4.0