抛光垫特性对硬质合金刀片CMP加工效果的影响

• 作者: 吴锋 毛美姣 胡自化
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 硬质合金刀片 抛光垫
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 表面质量控制及检测
• 页码范围: 270-276
• 页数: 7页
• 分类号: TG175
• 字数: 3127字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.12.042

摘要

目的 研究不同种类的抛光垫对硬质合金刀片表面化学机械抛光(Chemical Mechanical Polish-ing/Planarization,CMP)加工过程的影响,为实现硬质合金刀片高效精密CMP加工提供有效参考.方法 利用Nanopoli-100智能抛光机,通过自制的Al2O3抛光液,分别采用9种不同种类的抛光垫对牌号为YG8的硬质合金刀片进行CMP实验,将0~40、40~80、80~120 min三个加工阶段获得的材料去除率和表面粗糙度进行对比,同时观察最佳的表面形貌,分析抛光垫特性对CMP加工效果的影响.结果 在抛光转速60 r/min,抛光压力177.8 kPa的实验条件下,9种不同类型的抛光垫中仅有5种适合用于YG8硬质合金CMP加工.而且抛光垫的表面粗糙度在YG8刀片CMP加工过程中的影响最为显著,抛光垫表面粗糙度越高,CMP加工的材料去除率越高.此外,抛光垫的使用时间对CMP过程也有影响,抛光垫使用时间越长,CMP的材料去除率越小.结论 YG8硬质合金刀片经5种不同类型抛光垫CMP加工后,其表面的烧伤、裂纹等缺陷均得到了极大改善.当使用细帆布加工40 min时,材料去除率最高,为47.105 nm/min;当使用细帆布加工80 min时,表面粗糙度最低,为0.039 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡自化		64	393	11.0	17.0
2	毛美姣		9	26	3.0	5.0
6	吴锋		2	5	1.0	2.0